本次研究的GH4169是沉淀強化型鎳基高溫合金,在高溫中具有良好的強度、塑韌性、抗腐蝕性、抗氧化性等綜合性能[1],常應用于核電彈簧和航天發動機中的高溫部件,具有較高的研究價值[2]。目前國內外的許多學者主要研究GH4169高溫合金力學性能的改善[3-6],但目前對其抗氧化性的研究還較少,因此本文研究了經過熱處理(960℃×1h+720℃×8h+620℃×8h)的GH4169合金的在650℃下的抗氧化性能和機理。
1、試驗材料及方法
本次試驗所用材料為江蘇新華合金有限公司經真空熔煉+電渣重熔制得的GH4169合金,其具體成分如表1所示。

根據相關文獻和該合金的使用工況[7-9],設計在650℃下氧化50h、100h、200h、400h、800h、1600h、2400h、3000h,研究了GH4169合金在650℃下的抗氧化性能。根據GB/T 13303—91標準將經熱處理(960℃×1h+720℃×8h+620℃×8h)的GH4169合金加工后處理成30mm×10mm×4mm的標準氧化試樣,將其置于高溫處理后的坩堝內,在高溫爐中進行氧化試驗,記錄氧化樣重量變化。使用布魯克D8 Advance X射線衍射儀測試氧化膜的主要物相,并利用ZEISS MerlinCompact、ZEISS Gemini SEM 500場發射掃描電子顯微鏡和配套的EDS能譜設備觀察氧化膜表面和截面形貌,分析物相的元素組成并研究抗氧化機理。
2、試驗結果與分析
(1)氧化動力學分析
從圖1中可知,在650℃下,合金單位面積內的氧化增重隨時間的延長呈現上升趨勢,但總體增重較小,并隨著氧化時間的延長,后期氧化增重迅速。

在高溫下,抗氧化性能好的金屬的氧化規律往往符合拋物線模型,即隨著氧化時間的延長,合金單位面積內的氧化增重速率逐漸趨于平緩。結合Vicent等人[10-11]的研究,對在650℃下單位面積內氧化增重情況進行非線性擬合,擬合函數選擇yn=knx,擬合后得出的具體擬合數據如表2所示。

GH4169合金的氧化增重規律并沒有嚴格符合平方拋物線模型,根據Peng[12-13]研究,非線性擬合中的n值大小是反映影響氧化進程的主要因素。根據表2并結合文獻[14],氧化溫度為650℃時,n<2,氧化進程會受到多種因素的綜合影響如氧化膜的應力、空洞和晶界等。非線性擬合中的Kn反映的是氧化進程的反應速率,Kn數值越大,表示氧化進程中氧化膜的生長越快,主要受溫度影響。
(2)GH4169合金在不同溫度下的氧化膜形態及物相分析
根據圖2,從宏觀上可以發現GH4169合金在氧化進程中表面會覆蓋了一層黑色的氧化膜,從微觀上看,氧化50h時,合金表面已經形成了一層致密的氧化膜,但表面存在一些溝壑、孔洞。隨著氧化的進行,缺陷漸漸消失,表面變得平整。合金表面800h后,表面形成了許多尖晶石顆粒,其化學成分為NiCr2O4[15]。

由于NiCr2O4尖晶石的形成需要足夠的Ni和Cr離子濃度,因此主要形成在氧化膜與金屬基體交界處,但隨著氧化的進行,這些尖晶石顆粒逐漸均勻布滿氧化膜表面,所以推斷出先形成的氧化膜不夠致密,導致基體不斷的提供Ni和Cr離子,導致了尖晶石的形成。分別對其進行能譜測試,測試結果如表3所示。

由表3可知,650℃下形成主要由Cr、Ni、Fe、Al、O構成的氧化物,對氧化樣進行XRD分析,分析結果如圖3所示。
如圖3所示,GH4169合金在650℃下的氧化物主要有Cr2O3、Fe2O3、NiCr2O4、Al2O3。Cr的氧化物穩定性要高于Fe的氧化物[16],因此,會優先形成以Cr、O元素為主的氧化膜覆蓋在合金表面。GH4169合金長期處于650℃的工作條件下工作,氧化膜的生長較為緩慢,離子的遷移能夠及時彌補氧化縫隙,在長時間的服役下能夠保證穩定,氧化膜不易發生剝落,因此GH4169合金在650℃下長期服役的抗氧化性能較好。

如圖4所示,GH4169氧化膜分為內、外兩層。在650℃下的氧化條件下,合金的外層氧化膜主要由Cr、Fe、Ni和O元素組成。結合圖3分析,外層氧化膜的主要物相為NiCr2O4。此溫度下形成的氧化物是非整比化合物,所以氧化介質可以通過晶體中的離子空位進一步滲入[17],由于Al元素易于形成氧化物,因此在內氧化層形成了Al2O3,內外致密的氧化膜在650℃下保證了合金基體不受氧化介質的侵蝕,保證了合金良好的抗氧化性。

從表4可知在650℃的氧化溫度下,GH6149合金的氧化膜隨時間的延長而變厚,但氧化膜較薄,并且沒有發現明顯的氧化侵蝕痕跡。氧化50h時,氧化膜的厚度僅為0.7μm。隨著氧化時間的增長,氧化膜的厚度上升幅度很小。直至氧化3000h,氧化膜的厚度才達到了2.18μm,反映了GH4169合金在650℃下具有優異的抗氧化性能。

3、結論
(1)GH4169合金在650℃下高溫氧化時,單位面積內的氧化增重隨氧化時間的延長呈現上升趨勢,氧化動力學曲線模型更接近于平方拋物線模型。
(2)GH4169在650℃高溫氧化,表面覆蓋了一層致密氧化膜。氧化初期合金表面形成一層氧化膜,但是不夠致密。隨著氧化的進行,氧化膜表面開始出現許多NiCr2O4尖晶石顆粒,并逐漸均勻布滿氧化膜表面。
(3 )GH4169在650℃高溫氧化,形成的氧化層分為內外氧化層,650℃下氧化反應的主要氧化產物為NiCr2O4,外層氧化膜的主要物相為NiCr2O4。氧化膜的厚度隨時間延長一直呈現上升趨勢,但未出現剝落且沒有氧化侵蝕現象。
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【作者簡介】
劉威(1986-),男,漢族,湖北襄陽人,碩士,工程師,研究方向:金屬材料。
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